Park Systems ウェビナー
AFM用サンプル プレパレーション
パーク・システムズ ウェビナー | #22
弊社アプリケーションスペシャリストよりサンプル調整のコツをお教えいたします。
ご興味のある方はぜひご参加ください！
ご興味のある方はぜひご参加ください！
▼ 講演題目
「AFM用サンプルプレパレーション」
▽ 講演内容
AFMで正確な像を得るための重要な作業の一つ、サンプルプレパレーション。
昨年パーク・システムズ本社から発行された『ユーザーハンドブック』より、様々な試料調整方法をご紹介いたします。
測定を成功させるために、測定対象物によってどのようにサンプルの調整・固定をすればよいか、 実習も交えて丁寧に解説いたします。
どのようにサンプルを調整したら良いか、コツを知りたい方にお勧めの講義です。
Semiconductor Process Monitoring; Annealing
Before Annealing
System: NX-Wafer
Scan Mode: Non Contact Mode
Scan Size: 8 µm x 8 µm
Semiconductor Process Monitoring; Annealing
After Annealing
System: NX-Wafer
Scan Mode: Non Contact Mode
Scan Size: 8 µm x 8 µm
Semiconductor Process Monitoring; Exposure
Exposure Tool #1
System: NX-Wafer
Scan Mode: Non Contact Mode
Scan Size: 50 μm × 50 μm
Semiconductor Process Monitoring; Exposure
Exposure Tool #2
System: NX-Wafer
Scan Mode: Non Contact Mode
Scan Size: 50 μm × 50 μm
Image caption
Speaker: 後藤 千絵
パーク・システムズ・ジャパン株式会社
技術部 アプリケーションスペシャリスト
1991年から現在まで32年間をAFMと共にしてきた後藤は、2012年にNEDOの研究員として、 千葉大学で燃料電池の研究に携わってきた。日常のデモンストレーション以外にも、これまでに多くのOn Siteセミナー、 ユーザートレーニングの実施や日本の顧客向けにオリジナルガイドブックの作成に手をかけている。
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