Park Webinar | 帕克原子力显微镜
在先进半导体制程领域中，光刻技术扮演着极其重要且关键的角色。其中，光掩模作为微缩图形的来源，如何确保其图形正确而不被缺陷所影响，缺陷检测与修复成了光掩模不可或缺的工序。
文中介绍原子力显微镜作为高精度纳米级定位与量测系统，可用来针对光掩模上的缺陷形貌、尺寸大小、定位缺陷位置与种类做进一步检验 (Defect Review)，并生成三维形貌和其他关键性的计量数据,亦可作为电子束或是激光修补机台的定期机况监控，给予及时的制程条件反馈。
此外，原子力显微镜作为高精度探针操控平台，搭配适宜的高机械强度的探针，可针对光掩模上的图案缺陷进行纳米级微加工处理，将缺陷推动使之与光掩模材料结合力弱化，后续导入清洗工序可有效去除缺陷，亦可以直接将缺陷推移至无效区域，使其不干预光刻过程从而达到缺陷移除或修复之目的。
更甚者，可利用探针操控技术直接将缺陷从光掩膜上"叼起"，不仅达到缺陷快速移除的目的，更能将叼起的缺陷做后续进一步详细物性分析，理清缺陷种类、材料、并加以推测可能污染来源机制，防范于未然。
Ferroelectricity is observed in hexagonal boron nitride(hBN) through control of the registry of stacked layers, which we explore through both amplitude-modulated and sideband Kelvin probe force microscopy (KPFM) on the Park FX40 automatic AFM.
A schematic of the formation of parallel stacked bilayer hBN is shown in addition to a contact potential difference map measured using sideband KPFM.
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林宏旻从事原子力显微镜行业工作20年，具有丰富的原子力显微镜使用经验，于2003年至2011年期间在纳米元件实验室（现名为中国台湾半导体研究中心）从事研究工作，积累了丰富的原子力显微镜的使用经验。无论是原子力显微镜在材料领域的性能表征还是半导体行业的计量，都具有丰富的实践经验。现为Park原子力显微镜大中华区原子力显微镜产品应用总经理，为Park客户提供专业定制AFM产品解决方案。